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CH3F

Halocarbon41 / Fluoromethane Application Halocarbon41 is used in the etching application f

#CVD#CH3F#Halocarbon#difluorometh#etch#一氟甲烷#蝕刻
Halocarbon 41 / Fluoromethane

Application
Halocarbon 41 is used in the etching application for DRAM and Semiconductor industry.


Product Specification
Purity    99.99%
N2             70
O2             20
H2O          10
HF             0.1
*ppm

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